Alimentazione di sputtering
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Alimentazione per sputtering di media frequenza serie MSB
L'alimentazione RF di a serie RHH si basa nantu à una tecnulugia di generazione RF matura per furnisce à i clienti un'alimentazione RF cù una putenza più grande, una precisione più alta è una risposta rapida. Cù a fase chì pò esse impostata, u cuntrollu di l'impulsi, a sintonizazione digitale è altre funzioni. Campi applicabili: industria fotovoltaica, industria di display à pannellu pianu, industria di semiconduttori, industria chimica, laburatoriu, ricerca scientifica, fabricazione, ecc.
Prucessi applicabili: deposizione chimica da vapore rinfurzata da plasma (PECVD), incisione a plasma, pulizia a plasma, fonte di ioni a radiofrequenza, diffusione a plasma, sputtering a polimerizzazione a plasma, sputtering reattivu, ecc.
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Alimentazione per sputtering serie MSD
L'alimentatore di sputtering DC di a serie MSD adotta u sistema di cuntrollu DC principale di a cumpagnia cumminatu cù un eccellente schema di trasfurmazione di l'arcu, in modu chì u pruduttu abbia prestazioni assai stabili, alta affidabilità di u produttu, picculi danni à l'arcu è bona ripetibilità di u prucessu. Adotta l'interfaccia di visualizazione cinese è inglese, faciule da aduprà.